金融行業(yè)東莞電銷卡辦理

知名通信專家、財(cái)經(jīng)網(wǎng)總編輯康釗在平臺(tái)的直播首秀“康釗財(cái)經(jīng)大講堂”中圍繞“芯片斷供會(huì)遭遇滅頂之災(zāi),中國(guó)芯片業(yè)能否自救”的話題，談道“中國(guó)芯片就算解決了光刻機(jī)的難題，但還有很多上游產(chǎn)業(yè)被美國(guó)限制。”這是何意？

我國(guó)光刻機(jī)發(fā)展史

據(jù)悉，芯片主要分為三大環(huán)節(jié)：芯片設(shè)計(jì)、芯片制造、芯片封裝，其中最為重要的要數(shù)“光刻機(jī)”，可以說光刻機(jī)就是在制造芯片時(shí)不可或缺的工具，沒有光刻機(jī)就沒有芯片。

但在過去，全球能夠生產(chǎn)高端光刻機(jī)的，被荷蘭的ASML所壟斷，而我國(guó)的光刻機(jī)起步晚，且由于《瓦森納協(xié)定》，美國(guó)能禁止荷蘭的光刻機(jī)出口中國(guó)，這就為我國(guó)生產(chǎn)研發(fā)芯片帶來(lái)了不小的困難。

但其實(shí)我國(guó)光刻機(jī)發(fā)展速度還是挺快的。最早顯示是在1965年開始研發(fā)自己的集成電路，但真正實(shí)現(xiàn)發(fā)展是2002年上海裝備公司（SMEE）成立之后，在光刻機(jī)被國(guó)外“卡脖子”這么久之后，看到了一絲曙光。

目前國(guó)內(nèi)技術(shù)最領(lǐng)先的光刻設(shè)備廠商——上海微電子裝備公司可以做到最精密的加工制程是90nm，和荷蘭ASML的7nm的工藝相比，差距還是很高，但也別小瞧這90nm制程能力，這已經(jīng)足夠驅(qū)動(dòng)基礎(chǔ)的國(guó)防和工業(yè)。哪怕是出現(xiàn)禁止進(jìn)口光刻機(jī)這種極端的情況時(shí)，中國(guó)仍然有芯片可用。

仍有別的產(chǎn)業(yè)被美國(guó)限制

不過就算解決了光刻機(jī)問題還有別的產(chǎn)業(yè)被美國(guó)限制。據(jù)了解，芯片產(chǎn)業(yè)除了最為重要的光刻機(jī)外，還包含若干的產(chǎn)業(yè)鏈，而每一道產(chǎn)業(yè)鏈對(duì)于芯片最終的成品而言都至關(guān)重要。

據(jù)了解，光刻機(jī)、芯片的應(yīng)用材料都掌握在日本、美國(guó)人手中。比如，光刻機(jī)有一種核心材料較光刻膠，幾乎被日本廠商壟斷，即便中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)鏈有企業(yè)生產(chǎn)出光刻機(jī)，但如果沒有光刻膠，也造不出來(lái)光刻機(jī)。

目前我國(guó)90到14nm高端芯片制造所需的ArF光刻膠完全依賴進(jìn)口，并且，多國(guó)禁止ArF光刻膠技術(shù)對(duì)我國(guó)進(jìn)行輸入。這顯然于我國(guó)芯片制造安全不利。